試料近傍にガスを導入し、収束した電子線で局所的な蒸着を行う電子線誘起蒸着法(EBID)は、ナノ構造を作製するとして注目を集めている。 今回、量子井戸構造基板にEBIDによりナノマスクを作製しエッチングすることで、微細な共鳴トンネル構造(RTD)を作製した。 左図は作製されたナノ構造のSEM像、右図は伝導特性を示す。この手法よって、任意の場所にnmサイズのRTD構造を作製することが可能になると期待される。